shallow trench isolation

См. также в других словарях:

• Shallow trench isolation — (STI), also known as Box Isolation Technique , is an integrated circuit feature which prevents electrical current leakage between adjacent semiconductor device components. STI is generally used on CMOS process technology nodes of 250 nanometers… …   Wikipedia

• P-n junction isolation — is a method used to electrically isolate electronic components, such as transistors, on an integrated circuit (IC) by surrounding the components with reverse biased p n junctions. Contents 1 Introduction 2 Operation 3 History 4 …   Wikipedia

• Chemical-mechanical planarization — Chemical Mechanical Polishing/Planarization is a process of smoothing surfaces with the combination of chemical and mechanical forces. It can be thought of as a hybrid of chemical etching and free abrasive polishing. Contents 1 Description 2… …   Wikipedia

• Halbleitertechnologie — Die Halbleitertechik definiert sich historisch und aufgrund der Verwendung der Produkte als Schlüsselkomponenten in elektrotechnischen Erzeugnissen als Teilgebiet der Elektrotechnik. Trifft man die Zuordnung aufgrund der eingesetzten Methoden und …   Deutsch Wikipedia

• Grabenisolation — Die Grabenisolation (englisch shallow trench isolation, STI, auch box isolation technique) ist ein Verfahren der Halbleitertechnik zur elektrischen Isolation einzelner Bauelemente (hauptsächlich MIS Feldeffekttransistoren) auf integrierten… …   Deutsch Wikipedia

• Lau Wai Shing — Wai Shing Lau (simplified Chinese name: 刘偉成, born July 29, 1955 in Hong Kong) is also known as Lau Wai Shing. The family name of Lau is sometimes spelled as Liu like Liu Bang (founder of the Han dynasty) or Liu Shaoqi or Liu Bocheng. This is… …   Wikipedia

• LOCOS-Prozess — LOCOS, kurz für englisch Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an… …   Deutsch Wikipedia

• Halbleitertechnik — Die Halbleitertechnik definiert sich historisch und aufgrund der Verwendung der Produkte als Schlüsselkomponenten in elektrotechnischen Erzeugnissen als Teilgebiet der Elektrotechnik (speziell der Mikroelektronik). Trifft man die Zuordnung… …   Deutsch Wikipedia

• LOCOS — LOCOS, kurz für Local Oxidation of Silicon (dt. »lokale Oxidation von Silicium«, ist in der Halbleitertechnik ein Verfahren zur elektrischen Isolation von Bauelementen (meist Transistoren). Dafür wird der Silicium Wafer an ausgewählten Stellen… …   Deutsch Wikipedia

• Thermische Oxidation von Silizium — Die thermische Oxidation von Silizium ist in der Halbleitertechnik ein Beschichtungsverfahren, bei dem auf einem einkristallinen Siliziumsubstrat (beispielsweise einem Silizium Wafer) eine dünne Schicht aus amorphen Siliziumdioxid aufgebracht… …   Deutsch Wikipedia

• LOCOS — LOCOS, short for LOCal Oxidation of Silicon, is a microfabrication process where silicon dioxide is formed in selected areas on a silicon wafer having the Si SiO2 interface at a lower point than the rest of the silicon surface.This technology was …   Wikipedia